2017-11-16 15:29:46 来源:新华网 作者:王鑫权
近日,国家02科技重大专项之“28nm节点浸没式光刻机产品研发”的核心部件之一——“浸液系统产品研制与能力建设”签约入驻杭州青山湖科技城。
什么是光刻机?高端光刻机是集成电路装备中技术难度最高的关键设备,因此也被称为人类技术发展的制高点和制造工业“皇冠上的明珠”。国外品牌主要以荷兰ASML,日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。我国是世界最大的芯片应用市场和进口市场,而光刻机是我国实现芯片产业自主化最大的短板,国家02科技重大专项旨在打破国外垄断,打造拥有自主知识产权的高端光刻机设备,对于我国芯片产业发展具有重大意义。
本次入驻的光刻机浸液系统项目拟在青山湖科技城核心区新增用地25亩,总投资5亿元。项目整体规划,一次建成,建设光刻机浸液系统产品研制与中试基地。与前期入驻的中电海康磁旋存储芯片项目毗邻而建,在科技城形成关键设备制造、芯片研发生产两大集成电路产业项目龙头。目前,该项目已拥有发明专利60余项;研发团队中,现有人员100余人,包括海外归来人员5 人,青年千人计划等专家2 人,博士12 人;计划新增人员120 人,包括海外归来人员5 人,千人及青年千人计划等专家5 人,博士15人。
浸液系统背景:浸液系统是浸没式光刻机四大核心部件之一,是光刻机突破干式曝光物理极限向更小技术节点发展的标志性技术。目前,国际上仅荷兰ASML和日本Nikon拥有浸液系统技术,且严格保密,因此,我国必须自主研发。
背景介绍:国家02 科技重大专项,即:“极大规模集成电路制造技术及成套工艺”,是《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》确定的16个重大科技专项之一,“浸液系统产品研制与能力建设”项目是我省在02 科技重大专项光刻机研发任务中承担的体量最大、技术最尖端、展示度最强的研发项目,同时也是青山湖科技城继01重大专项项目(即“核心电子器件、高端通用芯片及基础软件产品”,在国家16个科技重大专项中排序第一)相关的中电海康磁旋存储芯片之外,承接的第二个国家科技重大专项相关项目。(王鑫权)